Unser Tantal-Target
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Dimension |
Durchmesser 50–400 mm x Dicke 3–28 mm |
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Grad |
R05200 R05400 R05252 (Ta-2,5W) R05255 (Ta-10W) |
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Reinheit |
Größer oder gleich 99,95 % (maximal 99,99 %) |
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Umkristallisieren |
Mindestens 95 % |
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Körnung |
Mindestens 40 um |
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Oberflächenrauheit |
Maximal Ra0,4 |
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Ebenheit |
0,1 mm oder maximal 0,10 % |
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Toleranz |
Durchmesser +/-0,254 mm |
Herstellungsprozess – Elektronenstrahl-Vakuumschmelzen
Als Kernschmelzverfahren für Tantalbarren verwenden wir das Elektronenstrahl-Vakuumschmelzen (EB).
Prozessvorteile:
● Die Ultrahochvakuumumgebung minimiert die Gasverunreinigung
● Hervorragende Entfernung von Sauerstoff, Stickstoff, Wasserstoff und metallischen Verunreinigungen
● Äußerst gleichmäßige Mikrostruktur und chemische Zusammensetzung
● Erhöhte Korrosionsbeständigkeit und Lebensdauer
● Hervorragende Konsistenz zwischen den Chargen
Dieser Prozess ist besonders wichtig für Anwendungen, die eine hohe Reinheit, Langzeitstabilität und extreme Korrosionsbeständigkeit erfordern.
Qualitätskontrolle
Auf Anfrage werden für jede Lieferung Mühlentestzertifikate (MTC) bereitgestellt.
- Analyse der chemischen Zusammensetzung
- Maß- und Oberflächenprüfung
- Prüfung der mechanischen Eigenschaften
- Chargenrückverfolgbarkeit und Dokumentation
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